抛光机的抛光速度低处理这一排斥的是的方法便是把抛光分成两个阶段开展。
粗抛总体目标是除去抛光损害层，这一环节应存有较大的抛光速度，粗抛产生的表层损害是主次的考虑到，但是也理应尽量小；次之是精抛(或称终抛)，其总体目标是除去粗抛造成的表层损害，使抛光损害减到少。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应肯定平行面并匀称地挤压在抛光盘上，留心防止试样飞出去跟因压力大而造成新磨痕。
与此同时，还应使试样匀速转动并沿轮盘半经方位往返移动，以防止抛光纺织物部分损坏太快在抛光过程时要一直提升硅微粉混液，使抛光纺织物坚持不懈一定湿度。湿度太交流会变弱抛光的磨痕功效，使试样较硬相呈现浮凸跟钢中非金属材料搀跟物及生铁中高纯石墨相造成“曳尾”景色；湿度太钟头，由于摩擦生热会使试样提温，润化功效减少，磨面无光泽，乃至展现黑色斑，轻铝合金则会抛伤为名。
自然，我们为了更好地做到粗抛的总体目标，要求轮盘转速比较低，是不必超出600r/min；抛光岁月理应比除掉刮痕需要的岁月长些，由于还需要除掉形变层。粗抛后磨面润化，但黯淡无光，在显微镜下查看有匀称细腻的磨痕，尚需精抛清除。
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